Các loại quy trình khắc kim loại

Quá trình khắc kim loại là một kỹ thuật loại bỏ vật liệu kim loại thông qua các phản ứng hóa học hoặc tác động vật lý, được sử dụng rộng rãi trong các lĩnh vực như chế tạo khuôn, chế tạo quy mô, các bộ phận cơ học và sản xuất thành phần điện tử. Theo các yêu cầu xử lý khác nhau và các loại vật liệu, các quá trình khắc kim loại có thể được chia thành nhiều loại khác nhau, bao gồm khắc hóa học, khắc điện phân, khắc cơ học, v.v.
Khắc hóa học:
Khắc hóa học là quá trình loại bỏ một hoặc nhiều lớp vật liệu khỏi bề mặt kim loại thông qua các phản ứng hóa học để tạo thành mẫu hoặc cấu trúc mong muốn. Quá trình này thường bao gồm các bước như khắc trước, khắc, rửa nước, ngâm axit, loại bỏ màng kháng và sấy. Phương pháp này có những ưu điểm của độ chính xác cao, xử lý không phá hủy và tính linh hoạt mạnh mẽ, và phù hợp để xử lý chính xác cao hàng loạt
Electrolytic khắc:
Electrolytic Etching sử dụng chất điện phân để hòa tan các bề mặt kim loại dưới tác động của điện trường, và phù hợp để xử lý các vật liệu như đồng và thép không gỉ. Dòng chảy quá trình bao gồm các bước như đi vào bể, bật năng lượng, khắc, rửa bằng nước, xử lý ngâm axit và sấy khô. Phương pháp này có thể đạt được kết quả gia công tốt hơn.
Khắc cơ học:
Khắc cơ học loại bỏ các vật liệu bề mặt kim loại thông qua các phương tiện vật lý như phay, cắt hoặc phun, và thường được sử dụng trong chế tạo khuôn và xử lý một phần. Phương pháp này phù hợp cho các kịch bản ứng dụng đòi hỏi độ bền và độ bền cao.
Khắc ẩm và khắc khô:
Khắc ướt được thực hiện bằng cách sử dụng thuốc thử hóa chất lỏng, trong khi khắc khô được thực hiện bằng cách sử dụng dầm khí hoặc ion trong môi trường chân không. Khắc ướt phù hợp để sản xuất quy mô lớn, trong khi khắc khô phù hợp hơn để chế biến vi mô chính xác cao.

Công nghệ khắc đặc biệt
Chế độ khắc theo chu kỳ: Thích hợp để xử lý lâu dài, giữ cho thành phần giải pháp không thay đổi, đảm bảo độ lặp lại và tính độc lập.
Khắc chân không: Khắc được thực hiện bằng môi trường áp suất thấp trong điều kiện chân không, phù hợp cho sự phát triển khí tinh thể đơn.
Etching sương mù: khắc cuối cùng bề mặt được thực hiện bằng cách phun các hạt mịn để tối ưu hóa tính chất điện và độ trong.